Полиномиальная модель химико-механической планаризации в производстве субмикронных СБИС - page 14

Рис. 8. Аппроксимация полиномиальной зависимостью коэффициентов преды-
дущего полинома при расчете остаточной толщины диоксида кремния
используются: длина планаризации
PL
, максимальный радиус
r
max
и
матрица
S
следующего вида:
S
=
C
0
C
1
C
k
C
N
s
↓ ↓
⎜⎜⎜⎜⎜⎜⎜⎜⎜⎜⎝
a
00
a
01
· · ·
a
0
r
· · ·
a
0
N
s
a
10
a
11
· · ·
a
1
r
· · ·
a
1
N
s
...
...
...
...
...
...
a
k
0
a
k
1
...
a
kr
...
a
kN
s
...
...
...
...
...
...
a
M
s
0
a
M
s
1
· · ·
a
M
s
r
· · ·
a
M
s
N
s
⎟⎟⎟⎟⎟⎟⎟⎟⎟⎟⎠
,
где
C
k
и
a
ij
— коэффициенты полинома.
С одной стороны, увеличение числа коэффициентов, размера ма-
трицы
S
позволяет точнее настроиться на определенный технологи-
ческий процесс, а с другой — необходимо иметь в виду, что после
расчета значений элементов матрицы
S
(коэффициентов полиномов
a
ij
)
путем регрессионного анализа, далее требуется получить с помо-
щью оптимизации параметры ядра свертки совместно с найденными
элементами матрицы
S
.
ISSN 0236-3933. Вестник МГТУ им. Н.Э. Баумана. Сер. “Приборостроение”. 2012. № 2 33
1...,4,5,6,7,8,9,10,11,12,13 15,16,17
Powered by FlippingBook