Полиномиальная модель химико-механической планаризации в производстве субмикронных СБИС - page 15

Рис. 9. Результат калибровки полиномиальной модели технологической опера-
ции ХМП
Большое число коэффициентов, во-первых, увеличивает время рас-
чета, во-вторых, что более важно, снижает сходимость метода поиска
оптимальных значений параметров при калибровке модели.
С использованием экспериментальных данных и разработанного
алгоритма поиска значений первого приближения коэффициентов вы-
ражения (14) была проведена калибровка модели, в результате чего
получена кривая (рис. 9).
В результате калибровки и верификации среднеквадратическая
ошибка отклонения модели по экспериментальным данным составила
191 и 404
A
. По сравнению с моделью, предложенной в [5], сниже-
ние ошибки при калибровке и верификации составило 49 и 20%, а в
сравнении с моделью, предложенной в [7], 37 и 18%.
Выводы.
Среди всех известных моделей операции ХМП, предло-
женная полиномиальная модель операции ХМПпозволяет наиболее
точно предсказать величину остаточного рельефа поверхности пла-
стины. Это дает возможность оптимальным образом вводить в то-
пологический слой межсоединений СБИС специальные фигуры за-
полнения, с помощью которых можно минимизировать остаточный
рельеф поверхности, и, тем самым, разброс толщины изолирующего
слоя диоксида кремния. В результате повышается стабильность тех-
нологического процесса производства СБИС в целом и увеличивается
процент выхода годных кристаллов.
Работа выполнена при финансовой поддержке Федеральной целе-
вой программы “Научные и научно-педагогические кадры инновацион-
ной России” на 2009–2013 годы.
34 ISSN 0236-3933. Вестник МГТУ им. Н.Э. Баумана. Сер. “Приборостроение”. 2012. № 2
1...,5,6,7,8,9,10,11,12,13,14 16,17
Powered by FlippingBook