Измерение распределения толщин многослойных пленочных структур методами спектральной рефлектометрии

ISSN 0236-3933. Вестник МГТУ им. Н.Э. Баумана. Сер. «Приборостроение». 2016. № 3

ми значениями показателя преломления двух сред (1,49 для ПММА и

1,46 для диоксида кремния).

Исследование выполнено при финансовой поддержке РФФИ в рамках

научного проекта № 14-08-01103 A.

ЛИТЕРАТУРА

Ozaydin-Ince Gozde, Coclite Anna Maria, Gleason Karen K

. CVD of polymeric

thin films: applications in sensors, biotechnology, microelectronics/organic elec-

tronics, microfluidics, MEMS, composites and membranes // Rep. Prog. Phys.

2012. Vol. 75. No. 1. P. 016501.

Bader G., Ashrit P.V., Truong V.V.

Transmission and reflection ellipsometry

of thin films and multilayer systems // Applied Optics. 1998. Vol. 37. No. 7.

P. 1146–1151.

Manifacier J.C., Gasiot J., Fillard J.P

. A simple method for the determination of

the optical constants

and the thickness of a weakly absorbing thin film // Jour-

nal of Physics E: Scientific Instruments. 1976. Vol. 9. No. 11. P. 1002.

Ghim Y.S., Suratkar A., Davies A

. Reflectometry-based wavelength scanning inter-

ferometry for thickness measurements of very thin wafers // Optics Express. 2010.

Vol. 18. No. 7. P. 6522–6529.

Tsepulin V.G., Perchik A.V., Tolstoguzov V.L., Karasik V.E.

Thin film thickness

measurement error reduction by wavelength selection in spectrophotometry //

Journal of Physics: Conference Series. 2015. Vol. 584.

Measurement

of the thickness profile of a transparent thin film deposited upon a

pattern structure with an acousto-optic tunable filter / D. Kim et al. // Optics

Letters. 2002. Vol. 27. No. 21. P. 1893–1895.

Лазерный

рефлектометрический метод измерения толщины нанопленок золо-

та на кварцевой подложке / В.А. Городничев, М.Л. Белов, А.М. Белов,

С.В. Березин, Ю.В. Федотов // Наука и образование. МГТУ им. Н.Э. Баумана.

Электрон. журнал. 2012. № 3. URL:

http://technomag.bmstu.ru/doc/326698.html

Борн М., Вольф Э.

Основы оптики. М.: Наука, 1973. 720 с.

Bates D.M., Watts D.G.

Nonlinear Regression Analysis and its Applications. John

Wiley & Sons, Inc., 1988.

10.

Перчик А.В., Толстогузов В.Л., Стасенко К.В., Цепулин В.Г.

Метод измерения

распределения толщин ITO-покрытий с помощью акустооптического ви-

деоспектрометра // Инженерный журнал: наука и инновации. 2013. Вып. 9.

DOI:

10.18698/2308-6033-2013-9-915 URL:

http://engjournal.ru/catalog/pribor/

optica/915.html

REFERENCES

[1] Ozaydin-Ince Gozde, Coclite Anna Maria, Gleason Karen K. CVD of polymeric

thin films: applications in sensors, biotechnology, microelectronics/organic elec-

tronics, microfluidics, MEMS, composites and membranes.

Rep. Prog. Phys

2012, vol. 75, no. 1, p. 016501.

[2] Bader G., Ashrit P.V., Truong V.V. Transmission and reflection ellipsometry

of thin films and multilayer systems.

Applied Optics

, 1998, vol. 37, no. 7, pp.

1146–1151.

[3] Manifacier J.C., Gasiot J., Fillard J.P. A simple method for the determination of the

optical constants

and the thickness of a weakly absorbing thin film.

Journal

of Physics E: Scientific Instruments

, 1976, vol. 9, no. 11, p. 1002.

[4] Ghim Y.S., Suratkar A., Davies A. Reflectometry-based wavelength scanning in-

terferometry for thickness measurements of very thin wafers.

Optics Express

2010, vol. 18, no. 7, pp. 6522–6529.