Previous Page  6 / 10 Next Page
Information
Show Menu
Previous Page 6 / 10 Next Page
Page Background

8

ISSN 0236-3933. Вестник МГТУ им. Н.Э. Баумана. Сер. «Приборостроение». 2016. № 3

на рис. 4. В процессе обработки с помощью описанного выше алго-

ритма нормировки на каждой длине волны вычисляют значения коэф-

фициента отражения пленки (кривая

2

). Кривая

3

представляет собой

теоретическую зависимость коэффициента отражения, построенную с

использованием значений толщины пленочного покрытия, найденных

в результате регрессионного анализа.

Рис. 4.

Спектральные зависимости относительного значения интенсивности

излучения (

1

), регистрируемого приемником, измеренного коэффициента

отражения (

2

) и теоретического коэффициента отражения (

3

), вычисленного

для найденных толщин исследуемого пленочного покрытия для точек, отме-

ченных знаками «+» (

а

) и «

» (

б

) на рис. 3

В процессе обработки спектральных изображений для каждой точки

определяют зависимость коэффициента отражения излучения от длины

волны, из которой путем проведения нелинейной регрессии находят

толщину пленочного покрытия. Если полученные измерения не соответ-

ствуют используемой модели вследствие загрязнений, высокой зашум-

ленности изображения или дефектов, то значение функции невязки будет

большим. По этому признаку могут быть отфильтрованы те участки по-

крытия, толщина которых определена с погрешностью.

Результат измерения распределения толщин исследуемого образца

приведен на рис. 5 (по осям

x

и

y

указаны значения по координатам в

пикселях). Точки, значение функции невязки в которых выше выбран-

ного эмпирически порогового значения, удалены. Следует отметить,

что слои выбранной двухслойной пленочной структуры имеют близкие

показатели преломления (1,49 для ПММА и 1,46 для диоксида крем-

ния). Это приводит к погрешности определения толщины каждой

структуры. Однако суммарную толщину определяют достаточно точ-

но. В результате среднеквадратическое отклонение (СКО) для участка

с однослойным покрытием из диоксида кремния SiO

2

и внешней

поверхности двухслойного покрытия составляет 0,7…1,0 нм, а СКО

толщины на границе раздела диоксида кремния SiO

2

и ПММА —

7…10 нм.