ISSN 0236-3933. Вестник МГТУ им. Н.Э. Баумана. Сер. «Приборостроение». 2016. № 3
3
DOI: 10.18698/0236-3933-2016-3-3-12
УДК 534:535
Измерение распределения толщин многослойных
пленочных структур методами спектральной
рефлектометрии
В.Г. Цепулин, В.Л. Толстогузов, В.Е. Карасик,
А.В. Перчик, А.П. Aрефьев
МГТУ им. Н.Э. Баумана, Москва, Российская Федерация
e-mail:
v.tsepulin@bmstu.ruРассмотрен спектральный метод измерения распределения толщин слоев мно-
гослойных пленочных структур, предложены методы калибровки измеритель-
ной установки и фильтрации полученных решений. Указанные методы провере-
ны экспериментально с помощью собранного гиперспектрального микроскопа
на основе двойного акусто-оптического видеомонохроматора. Приведен анализ
результатов измерения толщины двухслойной пленочной структуры из диокси-
да кремния
(SiO
2
)
и полиметилметакрилата на кремниевой подложке.
Ключевые слова:
многослойные пленочные структуры, рефлектометрия, про-
филометрия, акусто-оптический фильтр, тонкие пленки.
Thickness Distribution Measurement
of Multilayer Film Structures by Spectral
Reflectometry Methods
V.G. Tsepulin, V.L. Tolstoguzov, V.E. Karasik, A.V. Perchik,
A.P. Arefev
Bauman Moscow State Technical University, Moscow, Russian Federation
e-mail:
v.tsepulin@bmstu.ruWe examine the spectral method of measurement of multilayer film structures layers
thickness distribution. Moreover, we propose a method of the measurement unit cali-
bration and a method of filtering the obtained solutions. The methods mentioned are
validated experimentally by means of the assembled hyperspectral microscope based
on the dual acousto-optical videomonochromator. We analyse the thickness measu-
rement results of the two-layer silicon dioxide
(SiO
2
)
film structure and polymethyl-
methacrylate structure on silicon substrate.
Keywords:
multilayer film structures, reflectometry, profilometry, acousto-optical fil-
ter, thin films.
ПРИБОРОСТРОЕНИЕ, МЕТРОЛОГИЯ
И ИНФОРМАЦИОННО-ИЗМЕРИТЕЛЬНЫЕ
ПРИБОРЫ И СИСТЕМЫ