Модель приемной системы оптико-электронных устройств для определения внутриприборной фоновой облученности плоскости анализа изображения элементами конструкции произвольной компоновки - page 15

При этом необходимо произвести их сравнительную оценку по уни-
версальности, точности и трудоемкости вычислительных работ при
практической реализации.
В случае расчета фоновой засветки в ПАИ ОЭУ произвольной кон-
структивной компоновки, наиболее рациональным из предлагаемых в
работе [6] методов является определение теплообмена между действу-
ющим входным отверстием (фиктивной излучающей поверхностью )
части прибора, расрасположенной за
m
i
-м источником, и изображени-
ем ПАИ через ее ОС в обратном ходе лучей (см. рис. 1).
Под входным отверстием понимается диафрагма в вышеуказанной
части прибора (при наличии в ней оптики — изображение диафраг-
мы), которая при заданной точке в ПАИ ОЭУ для анализируемого
m
i
-го источника наиболее ограничивает его излучение. Воспользовав-
шись соотношением (5), суммарную облученность в ПАИ ОЭУ для
выбранного метода решения поставленной задачи вычисляем следую-
щим образом:
E
A
(Σ) =
β
2
Σ
(
k
)
m
1
k
l
E
A
(
N
)+
+
mk
l
E
A
(
M
0
γ
) +
m
l
E
A
(
M
γ
(
k
))
Ω
k
+
M
l
E
A
(
M
γ
)
,
(9)
где
Ω
k
— телесный угол, определяемый конфигурацией проекции из-
лучающей зоны источника формы
ξ
из точки
А
с учетом его экра-
нирования на плоскость входного отверстия части прибора за
K
оптической поверхностью;
β
Σ
(
K
)
— линейное увеличение ОС части
прибора за
K
-й оптической поверхностью;
m
1
k
и
m
k
— соответственно
линзовый и зеркальный компоненты ОС в секции конструкции при-
бора, расположенной перед
K
-й оптической поверхностью.
Первый член приведенной зависимости (с индексом
Ω
k
)
определя-
ет облученность в ПАИ от оптических компонентов, находящихся в
секции конструкции ОЭУ перед
K
-й поверхностью, при
Е
А
(
N
) = 0
составляющая
E
A
(
M
0
γ
) = 0
и наоборот, если
E
A
(
N
) = 0
, засветка
E
A
(
M
0
γ
) = 0
.
Для расчета положения входного отверстия относительно
K
и
-
й поверхности, определяемой выбранным
m
i
-м источником (та-
бл.
Т
1
А
. . .
Т
1
D
1
, см. рис. 2,
а
), необходимо найти изображение ПАИ
ОЭУ в пространстве предметов при известном заднем вершинном от-
резке
S
0
(табл.
Т
2
А
, см. рис. 2,
а
). При вычислении размера входного
отверстия находят изображения диафрагм, расположенных за
K
-й по-
верхностью в пространстве предметов, и из центральной точки ПАИ
ISSN 0236-3933. Вестник МГТУ им. Н.Э. Баумана. Сер. “Приборостроение”. 2006. № 1 25
1...,5,6,7,8,9,10,11,12,13,14 16,17,18,19
Powered by FlippingBook