Рис. 6. Зависимость толщины слоя
резиста Ultra-i 123-0.35 от скорости
вращения центрифуги
Заключение.
Выполнено ис-
следование характеристик и да-
на оценка однородности нане-
сения резиста Ultra-i 123-0.35
методом центрифугирования с при-
менением ИК-спектральной элли-
псометрии. В результате экстра-
гированы оптические константы
резиста Ultra-i 123-0.35 в ИК-
диапазоне длин волн от 2 до
33 мкм, а также определена зави-
симость толщины слоев резиста от
скорости вращения центрифуги (2000. . . 7000 об/мин).
Неоднородность толщины резиста по поверхности всех образцов
составила менее 2%, что свидетельствует о высоком качестве процес-
са нанесения.
Полученная зависимость толщины резиста от скорости вращения
центрифуги будет использоваться при выборе технологических режи-
мов нанесения пленок резиста Ultra-i 123-0.35 в диапазоне толщин
250. . . 480 нм. Данный выбор обычно обусловлен необходимостью по-
иска компромисса между разрешением (минимальным размером топо-
логических элементов) и селективностью травления (отношение глу-
бины травления функционального материала к травлению резиста) для
различных применений.
ЛИТЕРАТУРА
1.
Моро У.
Микролитография. Принципы, методы, материалы. В 2-х т. / пер. с
англ. М.: Мир, 1990. Ч. 1. 605 с.
2.
Progress
in Spectroscopic Ellipsometry: Applications from Vacuum Ultraviolet to
Infrared / J. Hilfiker, C. Bungay, R. Synowicki, T. Tiwald, C. Herzinger, B. Johs,
G. Pribil, J.A. Woollam // J. Vac. Sci. Technol. A. 2003. Vol. 21, I. 4. P. 1103–1108.
3.
Survey
of Methods to Characterize Thin Absorbing Films with Spectroscopic
Ellipsometry / J. Hilfiker, N. Singh, T. Tiwald, D. Convey, S.M. Smith, J.H. Baker,
H.G. Tompkins // Thin Solid Films. 2008. No. 516. P. 7979–7989.
4.
Use of Molecular
Vibrations to Analyze Very Thin Films with Infrared Ellipsometry
/ H.G. Tompkins, T. Tiwald, C. Bungay, A.E. Hooper // J. Phys. Chem. B. 2004.
Vol. 108, I. 12. P. 3777–3780.
5.
Макеев М.О.
,
Жукова Е.А.
Исследование алмазоподобных покрытий методами
ИК-спектральной эллипсометрии и спектроскопии комбинационного рассеяния
света // Наука и образование. МГТУ им. Н.Э. Баумана. Электрон. журн. 2013.
№ 7. С. 229–240. URL:
http://technomag.edu.ru/doc/597996.html6.
Application
of IR ellipsometry to determination of the film thickness of a
polytetrafluoroethylene sample modified in direct-current discharge / M.O. Makeev,
Yu.A. Ivanov, S.A. Meshkov, A.B. Gil’man and
M.Yu. Yablokov // High Energy
Chemistry. 2011. Vol. 45., No. 6. P. 536–538.
ISSN 0236-3933. Вестник МГТУ им. Н.Э. Баумана. Сер. “Приборостроение”. 2015. № 6 131