3 / 10
Рис. 1. Структура заготовки
Рис. 2. Алгоритм эллипсометрических
исследований
(Япония), на которые наноси-
лись пленки резиста Ultra-i 123-
0.35. Структура заготовки пока-
зана на рис. 1, размер квадрат-
ной заготовки 63,1
±
0,2 мм.
Нанесение резиста Ultra-i
123-0.35 проводилось на уста-
новке Cee 200CBX фирмы
Brewer Science (США) при
скоростях вращения центрифу-
ги 2000. . . 7000 об/мин с шагом
1000 об/мин (всего 6 образцов).
Сушка резиста проводилась на
горячей плите с зазором при
90
◦
С в течение 90 с.
Эллипсометрические ис-
следования выполнялись на
ИК-спектральном эллипсоме-
тре IR-VASE компании Woolam
(США) по следующему алго-
ритму (рис. 2): измерение спек-
тров эллипсометрических пара-
метров
Ψ
и
Δ
, создание элли-
псометрической модели (определение оптических констант и толщин
слоев), оптимизация параметров модели для получения наилучшего
совпадения экспериментальных и модельных (на базе этой модели)
данных, анализ и интерпретация полученных данных.
Измерения образцов проводились в четырех областях размером
порядка 1 см (рис. 3). Параметры измерений: спектральный диапазон
300. . . 5000 см
−
1
(2. . . 33 мкм), спектральное разрешение 16 см
−
1
, углы
падения излучения на образец 50
◦
и 70
◦
. Выбор точек обусловлен вра-
щательным движением подложки, в результате чего толщина изменя-
ется симметрично от центра к краю подложки, что позволяет взять
ISSN 0236-3933. Вестник МГТУ им. Н.Э. Баумана. Сер. “Приборостроение”. 2015. № 6 127