в процессе ПХТ стравливается неравномерно: скорость травления хро-
ма оказывается выше в центральных зонах вершин профиля и ниже —
по краям вершин.
Причин появления этого эффекта может быть две. Первая причина
может быть связана с особенностями формирования записываемого
рисунка. Возможно, что вначале очерчивается контур, а затем луч ла-
зера или электронный луч, сканируя, заполняет очерченный контур
импульсами излучения. В этом случае стойкость слоя по контуру ока-
жется выше, чем в сердцевине контура.
Однако более весомой представляется вторая причина, которая мо-
жет быть связана с принципиальными особенностями процесса ПХТ
— на краю очерченного контура вершины профиля скорость травле-
ния ниже, чем в центре контура. Это может происходить, если про-
цессы физического и химического разрушений материала в некоторой
рассматриваемой точке при ПХТ определяются воздействием атомов,
ионов и радикалов не только на эту точку, но и на точки, находящиеся
в ее окрестности.
Другой особенностью микропрофиля (см. рис. 2,
б
) является нали-
чие углублений в местах перехода дна впадины в вертикальную стенку
выступа. Формирование таких углублений объясняют рикошетирова-
нием положительно заряженных ионов, атомов и радикалов от вер-
тикальных стенок профиля. В местах сочленения дна с вертикальной
стенкой на дно воздействуют не только частицы, вектор перемеще-
ния которых был направлен собственно в область, ограниченную пло-
щадкой дна, но и те частицы, которые пролетели бы мимо площадки
дна, если бы она не была окружена вертикальной стенкой. Учитывая
особенность режима опыта (см. рис. 2,
б
), можно утверждать, что эта
характерная особенность микрорельефа формируется при максимиза-
ции хаотичности движения в плазме положительно заряженных ионов
аргона и фторсодержащих радикалов.
Во втором эксперименте, проведенном по плану 2
2
, исследовали
влияния факторов тока подмагничивания
I
и расхода фреона (CF
4
).
Здесь изображения в виде квадратов на образцах состояли из кле-
ток размерами 10
×
10 мкм, а размер каждого из четырех квадратов на
образце составлял 256
×
256 клеток. На каждом образце размещалось
по четыре квадрата, а исходная толщина хромового покрытия соста-
вляла 110 нм.
Матрица планирования второго эксперимента и его результаты
представлены в табл. 3; здесь обозначено:
x
1
— кодированное значе-
ние тока подмагничивания
I
(при
x
1
= +1
I
= 2
,
0
А, а при
x
1
=
−
1
I
= 1
,
5
А);
x
2
— кодированное значение расхода фреона
f
CF
4
(при
x
1
= +1
f
CF
4
= 3
,
0
л/мин, а при
x
1
=
−
1
f
CF
4
= 2
,
4
л/мин).
ISSN 0236-3933. Вестник МГТУ им. Н.Э. Баумана. Сер. “Приборостроение”. 2010. № 2 99
