

Оценка погрешностей измерения толщин многослойных пленочных покрытий…
ISSN 0236-3933. Вестник МГТУ им. Н.Э. Баумана. Сер. Приборостроение. 2017. № 3
7
С одной стороны, используя выражение для характеристической матрицы
k
-го слоя [3], получаем
−
=
= +
∂β
∂β
−
β −
β
∂
∂
′
=
=
∂β
∂β
−
β −
β
∂
∂
∏
∏
1
1
1
sin
cos
cos
sin
k
k
k
k
k
L
k
k
i
i
k
k
i
i k
k
k
k
k
i
d
p d
ip
d
d
M M
M
−
=
= +
π
π
−
θ β −
θ β
λ
λ
=
π
π
−
θ β −
θ β
λ
λ
∏
∏
1
1
1
2
2
cos sin
cos cos
,
2
2
cos cos
cos sin
k
k
k
k
k
k
k
L
i
i
i
i k
k
k
k
k
k
k
i
n
n
p
ip n
n
M
M
где
2 co ; s
k
k
n
π β =
θ
λ
k
θ
— угол между направлением распространения излуче-
ния в
k
-м слое пленочного покрытия и нормалью к поверхности раздела сред.
С другой стороны, имеем
∂
∂
∂
∂
∂
=
∂
∂
∂
∂
∂
11
12
21
22
.
k
k
k
k
k
M M
d
d
M M
d
d
d
M
(6)
Сопоставляя выражения (5) и (6), получаем, что производные коэффициен-
тов матрицы
M
могут быть найдены как соответствующие коэффициенты мат-
рицы
.
′
M
С использованием этих коэффициентов и выражения (4) могут быть
вычислены значения частных производных в точке решения, найденного по
формуле (1) при решении задачи оптимизации. В свою очередь, эти значения
позволяют оценить среднеквадратическое отклонение неизвестных параметров.
Экспериментальная проверка полученной модели для оценки погрешности.
Для проверки полученных выражений была проведена серия измерений эталонно-
го образца пленочного покрытия с помощью аппаратуры и методов, описанных в
работе [7]. Схема экспериментальной установки, которая использована для прове-
дения эксперимента, представлена на рис. 1. Спектральные изображения образца
пленочного покрытия SiO
2
толщиной 312,8 нм на кремниевой подложке, были за-
регистрированы при различном времени экспонирования с помощью матричного
приемника излучения. С уменьшением времени экспонирования матрица реги-
стрирует меньший сигнал, и, поскольку ее шум носит преимущественно аддитив-
ный характер, среднеквадратическое отклонение измеренного коэффициента от-
ражения становится больше.
Результаты проведенных измерений для минимального и максимального
значений времени экспонирования приведены на рис. 2. Эксперимент проводили
с использованием длин волн равномерно выбранных из диапазона 500…640 нм.
Для каждого спектрального изображения была проведена обработка центральной