контроля таких поверхностей [1, 4–12]: метод пробных стекол; ком-
пенсационный метод; метод анаберрационных точек.
Метод пробных стекол не получил широкого распространения; его
недостатками являются контактность и сложность изготовления асфе-
рического пробного стекла. В отличие от метода пробных стекол, ком-
пенсационный метод весьма распространен. Однако в некоторых за-
дачах его применение не целесообразно. Это обусловлено индивиду-
альностью компенсатора и тем, что размеры последнего соизмеримы,
либо превосходят размеры контролируемой поверхности.
Разработка высокоточного метода контроля, свободного от перечи-
сленных выше недостатков, является актуальной задачей. В настоя-
щей работе рассмотрена схема интерферометра для контроля качества
отражающих выпуклых гиперболических поверхностей с местной по-
грешностью формы 0,05 и более длины волны методом анаберраци-
онных точек. Указанный метод основан на использовании свойства
геометрических фокусов отражающих АП второго порядка, являю-
щихся парой оптически сопряженных анаберрационных точек. Идея
метода заключается в применении расположенной между фокусами
гиперболической поверхности плоскопараллельной пластины для со-
здания рабочего и эталонного волновых фронтов. Схема интерферо-
метра впервые была предложена в работе [1]. Однако в этой работе
не было проведено исследование диапазона контролируемых поверх-
ностей в соответствии с заданным требованием к их точности. Цель
настоящей работы – оценка возможностей интерферометра – иссле-
дование диапазона радиусов и эксцентриситетов контролируемых по-
верхностей и соответствующей этим диапазонам точности контроля.
Описание интерферометра.
Принципиальная схема интерферо-
метра Физо представлена на рис. 1. В основу его действия положены
свойства когерентности и монохроматичности лазерного излучения.
Для пояснения принципа работы интерферометра предположим,
что полупрозрачная плоскопараллельная пластина
4
, установленная
перпендикулярно линии, соединяющей геометрические фокусы
F
1
и
F
2
контролируемой гиперболической поверхности, — бесконечно тон-
кая. Пусть расстояние от геометрических фокусов до пластины оди-
наковы, а фокус микрообъектива
2
совмещен с фокусом
F
1
. Числовая
апертура микрообъектива выбирается по апертурному углу
σ
1
в фокусе
F
1
. Лучи, отраженные от пластины, создают эталонный сферический
волновой фронт. Лучи, прошедшие через пластину, отражаются от
контролируемой АП и вторично проходят через пластину, формируя
рабочий волновой фронт. Последний будет сферическим, если кон-
тролируемая поверхность и пластина имеют идеальную форму. Цен-
тры кривизны эталонного и рабочего волновых фронтов совмещены,
поэтому на экране
3
должно наблюдаться равномерно освещенное
интерференционное поле.
ISSN 0236-3933. Вестник МГТУ им. Н.Э. Баумана. Сер. “Приборостроение”. 2015. № 1 133