Previous Page  3 / 8 Next Page
Information
Show Menu
Previous Page 3 / 8 Next Page
Page Background

кремниевого преобразователя. Формирование резисторов происходит

за счет внесения примеси другой проводимости в кристаллографиче-

скую решетку кремния методом диффузии. Согласно практике про-

ектирования достаточно рассматривать только механические явления

(без учета пьезоэлектрического эффекта). Помимо этого были приня-

ты следующие допущения: упругие характеристики мембраны анизо-

тропны, тензорезисторы преобразователя предполагаются точечными

(переход к протяженным резисторам предполагает усреднение откли-

ков). Изменение сопротивления тензорезисторов можно представить в

виде следующего выражения:

Δ

R/R

=

K

f

ε,

где

Δ

R/R

— относительное изменение сопротивления тензорезисто-

ра;

K

f

— коэффициент тензочувствительности, который зависит от

электронных свойств кремния и является величиной постоянной для

кремния данной проводимости и ориентации подложки;

ε

— линейная

деформация (толщина тензорезисторов не превышает 2 мкм).

Поэтому основным параметром, влияющим на чувствительность

и линейность преобразователя давления, является деформация мем-

браны, возникающая под действием давления. Необходимо исследо-

вать деформации мембраны для выявления областей максимальных

деформаций и минимальной нелинейности. Учитывая малые разме-

ры диффузионных тензорезисторов (дина 100 мкм, ширина 10 мкм),

считаем, что с помощью тензорезистора можно измерять деформацию

в точке. Попытки оптимизировать размеры и характеристики крем-

ниевых чувствительных элементов предпринимались в работах [4–7].

Конструкции датчиков давления для различных уровней давления рас-

смотрены в работах [8–10]. К сожалению, в этих работах нет конкрет-

ных рекомендаций разработчику по выбору конструкции мембран и

топологии расположения тензорезисторов.

В настоящем исследовании для оптимизации расположения тензо-

резисторов требуется определить, где в мембране с жестким центром

и плоской мембране возникают максимальные линейные деформации.

Для этого был использован метод конечных элементов (МКЭ) [11, 12].

В качестве объектов исследований возьмем кремниевые кристаллы

размером 4000

×

4000 мкм, один из которых имеет мембрану 2000

×

×

2000 мкм с жестким центром 1000

×

1000 мкм, а другой — плоскую

мембрану размером 2000

×

2000 мкм. Толщина мембраны 40 мкм. На

расстоянии 10 мкм от пластины расположен упор (рис. 1).

В комплексе ANSYS были созданы конечно-элементные модели

пластин с жестким центром и без жесткого центра (рис. 2). Был ис-

пользован 10-узловой элемент SOLID 187.

Свойства материала следующие: модуль упругости

1

,

3

10

5

МПа,

коэффициент Пуассона 0,266. Пластины жестко закреплены по

ISSN 0236-3933. Вестник МГТУ им. Н.Э. Баумана. Сер. “Приборостроение”. 2015. № 6 137