оптимальные углы зондирования для исследуемого диапазона частот
(при одинаковой обработке поверхности образцов) и сравнить инди-
катрисы силы отраженного излучения. Некоторые результаты экспе-
риментального определения спектральных коэффициентов отражения
R
(
λ
)
в ВУФ области спектра (при
Т
≈
300
K) для ряда промышлен-
ных образцов диэлектриков также приведены на рис. 7 и 8 в условиях
низкой спектральной плотности мощности зондирующего излучения
— допороговой для начала развития волны испарения на поверхности
исследуемых мишеней. Хорошая воспроизводимость эксперименталь-
ных результатов
R
(
λ
)
при ВУФ узкополосном зондировании в диа-
пазоне температур
T
≈
300
. . .
77
K позволяет выявить основные за-
кономерности частотного распределения коэффициентов отражения в
ВУФ области спектра конструкционных материалов данного класса и
их корреляцию с зависимостями
R
(
λ
)
на лазерных частотах, которые
могут быть использованы для спектрально-энергетического оптимиза-
ционного анализа плазменно-лучевых энергоустановок с применением
стандартного фотометрического оборудования. В температурном диа-
пазоне
∼
77
K регистрируется незначительный (
∼
10
%) разброс значе-
ний
R
(
λ
)
в ВУФ области спектра, что требует статистического ана-
лиза инструментальной погрешности в каждом спектральном интер-
вале и дальнейшего развития данной экспериментальной технологии
изучения спектрально-энергетических зависимостей
R
(
λ,
Т
, I
0
)
с ис-
пользованием вторичных метрологических эталонов в сверхвысоком
вакууме.
Сравнительный анализ спектральных коэффициентов отражения
показывает их удовлетворительное соответствие частотным зависи-
мостям
R
(
λ
)
в УФ области спектра (4. . . 6 эВ), полученным с исполь-
зованием газоразрядных источников зондирующего излучения в ана-
логичных экспериментальных условиях [7].
Полученные новые экспериментальные данные об оптических ха-
рактеристиках в спектральных областях, доступных для сравнения,
являются разделом электронной базы экспериментальных и расчетно-
теоретических данных термодинамических, оптических и транспорт-
ных характеристик активных сред и конструкционных материалов
плазменных и фотонных энергетических установок, создаваемой для
ИК–МР диапазона спектра и температур
10
−
3
. . .
10
2
эВ, логика и
структура которой описана в работе [8].
Исследования выполнены при поддержке РФФИ, грант № 08-08-
12047.
50 ISSN 0236-3933. Вестник МГТУ им. Н.Э. Баумана. Сер. “Приборостроение”. 2010. № 1