лемы может быть использовано специальное математическое и про-
граммное обеспечение, позволяющее трансформировать топологию
сложнофункциональных блоков таким образом, чтобы были выпол-
нены заданные конструкторско-технологические ограничения.
Одним из наиболее сложных этапов при решении указанной за-
дачи является построение графовых моделей, которое позволяет фор-
мализовать процедуры поиска различных альтернативных вариантов
решения.
В настоящей работе рассматриваются нетривиальные перспектив-
ные подходы к автоматизации задач трансформации топологии на
основе графовых моделей для технологии двойного фотошаблона,
ориентированные на применение для сложнофункциональных блоков.
Влияние особенностей технологии двойного фотошаблона на
модели топологии СБИС.
Основная идея технологии двойного фото-
шаблона заключается в последовательном применении двух фотоша-
блонов во время экспонирования фоторезиста для получения рисунка
с размерами элементов, недостижимыми с помощью традиционных
методов оптической литографии. Выполнив эту технологическую опе-
рацию дважды — по одному разу для каждого фотошаблона — можно
получить такое же плотное размещение элементов на поверхности
полупроводниковой пластины, как было на исходном фотошаблоне.
В ситуации возможной задержки или даже отказа от перехода на лито-
графию EUV ведущие компании-поставщики литографического обо-
рудования пересматривают свои планы, выдвигая на первый план для
32- и 22-нм технологий установки 193-нм иммерсионной литографии
с двойным экспонированием рисунка.
В связи с началом широкого промышленного использования тех-
нологии двойного шаблона необходим переход к интегральному и си-
нергетическому развитию литографии и систем автоматизации проек-
тирования. Это влечет за собой значительные изменения в различных
компонентах САПР, в частности в моделях топологии СБИС.
Традиционно информация о топологии СБИС хранится в файле,
имеющем специальный формат. Наиболее распространенным являет-
ся формат представления топологической информации GDSII [5]. Этот
формат файлов в настоящее время является ведущим индустриальным
стандартом для представления информации о топологии интегральных
схем. Он также используется не только для представления информа-
ции, но и при последующей ее обработке в различных САПР СБИС.
Формат GDSII описывает плоские геометрические формы, тексто-
вые поля и другую информацию в иерархической структуре. Каждая
структура содержит следующие элементы: граница/многоугольник,
траектория/полилиния, текст, структурные ограничения, массивы пе-
ISSN 0236-3933. Вестник МГТУ им. Н.Э. Баумана. Сер. “Приборостроение”. 2011. № 1 79
