Оптимизация фоновых засветок плоскости анализа оптико-электронных устройств собственным излучением элементов их конструкции - page 2

засветка
)
и облучающим ее вследствие отражения от поверхности эле
-
ментов конструкции внутренней полости ОЭУ
(
рассеянная засветка
).
Количественное соотношение составляющих фоновой облученности
плоскости анализа определяется
,
в первую очередь
,
спектральным диа
-
пазоном работы прибора
(
с его увеличением возрастают зеркальные
свойства поверхностей неоптических элементов конструкции
),
а также
сложностью его конструктивной компоновки
.
Теоретические и экспериментальные исследования фоновых засве
-
ток
,
обусловленных собственным излучением элементов конструкции
ОЭУ
,
проводятся на предприятиях оптического приборостроения
.
Основы методики расчета объемного излучения оптических сред
развивались Г
.
О
.
Мак
-
Магоном
,
Ю
.
А
.
Суриновым и другими
[1–3].
Были проведены исследования влияния нагрева основных элементов
оптических систем ОЭУ
,
в том числе обтекателей
,
установленных на
летательном аппарате
,
на их работоспособность
.
Для этого были раз
-
работаны методики расчета облученности указанными оптическими
элементами
(
формы мениска
,
конуса
,
пластины
)
в плоскости анализа
изображения прибора
[4–6].
Помимо указанных были созданы методики расчета ВФЗ головны
-
ми элементами ОЭУ при повороте относительно них остальной части
оптической системы прибора
,
а также методики
,
в которых учиты
-
вается экранирование их излучения защитными блендами
[7–10].
В
проведенных исследованиях экспериментально подтверждалось
,
что
для рассматриваемого типа ОЭУ
,
работающих в спектральном диапа
-
зоне
1
. . .
3
мкм
,
ВФЗ в основном определяется излучением аэроди
-
намически нагреваемых головных элементов их оптической системы
.
Это позволяло в том же спектральном диапазоне использовать создан
-
ные методики для определения внутриприборных засветок оптико
-
электронных устройств
,
первый оптический компонент которых нахо
-
дится в тяжелых температурных условиях
(
защитные стекла пироме
-
тров
,
тепловизоров
,
авиационных фотоаппаратов
,
пеленгаторов и др
.).
Созданы также теоретические основы для определения ВФЗ соб
-
ственным излучением линзовых компонентов ОЭУ
[4, 5].
При их прак
-
тической реализации появляется возможность определять составляю
-
щие фоновой облученности этими компонентами в случае исследова
-
ния чувствительности ОЭУ различного функционального назначения
,
обычно работающих в условиях изменения температуры окружающей
среды в диапазоне
60
. . .
60
o
С
.
Однако оценка предлагаемых в рабо
-
те
[5]
аналитических соотношений для расчета ВФЗ линзовыми ком
-
понентами оптической системы выявила ограниченность использова
-
ния этих формул с точки зрения точности вычислений в зависимости
106 ISSN 0236-3933.
Вестник МГТУ им
.
Н
.
Э
.
Баумана
.
Сер
. "
Приборостроение
". 2004.
1
1 3,4,5,6,7,8
Powered by FlippingBook