| 
Поиск по ключевому слову "толщина слоя"
Исследование характеристик и методов нанесения резиста с применением ИК-спектральной эллипсометрии
| Авторы: Макеев М.О., Зверев А.В., Родионов И.А. | Опубликовано: 23.12.2015 |
| Опубликовано в выпуске: #6(105)/2015 | |
| DOI: 10.18698/0236-3933-2015-6-125-134 | |
| Раздел: Приборостроение, метрология и информационно-измерительные приборы и системы | Рубрика: Проектирование и технология приборостроения и радиоэлектронной аппаратуры | |
| Ключевые слова: микроэлектронные устройства, литография, резист, центрифугирование, ИК-спектральная эллипсометрия, толщина слоя, оптические константы | |